第九届进博会，上海微电子（SMEE）展出新一代前道干式扫描投影光刻机平台 SSC800、SSB800 模型，并对外披露产业化关键数据：机型已经定型、规模化量产，在国内头部逻辑、存储产线稳定服役，累计流片突破千万片，设备有效运行率超 92%，关键零部件国产化率突破 90%；这标志国产 KrF、I-line 前道光刻机从样机验证，正式进入大规模量产替代阶段，不过该平台定位成熟制程干式光刻，并非 EUV 浸没式光刻机。下面从产品参数、核心技术、应用场景、产业价值、边界区分逐一拆解。
一、两大机型基础信息清单
- SSC800（KrF，248nm）
- SSB800（I-line，365nm）
覆盖 110nm 及以上制程，面向高密度存储、微处理器、高性能计算、Micro LED 等场景，可用于 8 寸、12 寸产线非关键层光刻。
覆盖 280nm 及以上制程，主打功率半导体、模拟芯片、MEMS、车规芯片，是工控、新能源芯片产线刚需机型。
整套平台采用自研双工件台架构，搭载国产大 NA 物镜；高精度物镜、照明系统、双工件台、掩模台、自动物料传输系统、对准传感系统实现全链条自主可控。
二、核心公开指标
- 累计流片量：超 1000 万片
- 设备有效运行率：＞92%
- 关键零部件国产化率：＞90%
- 定位：干式扫描前道光刻机，对标海外成熟 KrF/I-line 机型
- 状态：定型、规模化量产，已经在国内头部晶圆厂量产线长期跑片，不是实验室样机
三、机型对比简表
| 型号 | 光源 | 支持制程 | 典型应用方向 |
|---|---|---|---|
| SSC800 | KrF 248nm | 110nm 及以上 | 存储、通用处理器、HPC 配套、Micro LED |
| SSB800 | I-line 365nm | 280nm 及以上 | 功率器件、模拟、MEMS、车规芯片 |
四、这次突破的产业意义
- 补齐成熟制程光刻装备短板：国内大量功率、模拟、存储、车规芯片产线高度依赖 KrF/I-line 干式光刻机，千万片流片数据证明国产设备的稳定性、良率、运维能力达到量产标准，具备规模化替代基础。
- 国产光刻产业链闭环验证：物镜、工件台、光源配套零部件同步完成国产化验证，不再是单一设备单点突破，带动上游精密光学、运动控制、精密机械配套产业成长。
- 缓解成熟制程产线的设备供给风险，保障国内车规、工业控制、新能源芯片的供应链安全。
五、需要厘清的边界（容易产生误解）
- 它是干式光刻机，不是浸没式 ArF，更不是 EUV 光刻机，不用于 7nm 及以下先进逻辑制程；先进制程的浸没光刻依然是后续攻关方向。
- 流片千万片，是多条产线多台设备累计晶圆加工总量，不是单台设备产出。
- 成熟芯片的制造流程有多层光刻，即便是先进 SoC，很多非关键层依然会使用 KrF、I-line 设备，因此这套平台同样可以配套先进芯片产线的部分工艺层。
- 对标对象是海外成熟 KrF/I-line 设备，成像指标对标国际标杆，但套刻、产能等细节指标仍在持续迭代追赶。
【相关 FAQ】
问题 1：上海微电子本次亮相的两款前道干式光刻机型号是什么？
回答 1：分别是 SSC800（KrF）、SSB800（I-line）新一代前道干式扫描投影光刻机平台，在第九届进博会展出。
问题 2：SSC800、SSB800 的流片、运行数据是多少？
回答 2：设备已经在国内头部逻辑、存储产线量产运行，累计流片突破千万片，设备有效运行率超 92%，关键零部件国产化率突破 90%。
问题 3：SSC800、SSB800 能不能做 7nm 这类先进芯片？
回答 3：不能。SSC800 面向 110nm 及以上，SSB800 面向 280nm 及以上成熟制程，属于干式光刻，不是浸没 ArF、EUV，不用于 7nm 及以下先进逻辑主制程。
问题 4：SSC800 和 SSB800 分别适合什么芯片？
回答 4：SSC800（KrF）用于存储、通用处理器、Micro LED；SSB800（I-line）主打功率半导体、模拟芯片、MEMS、车规芯片。
【参考资料】
[2026-11-08]（国产光刻机里程碑！上海微电子前道干式光刻机落地：流片破千万片）集微网
[2026-11-08] 上海证券报：上海微电子新一代前道光刻机亮相进博会
[2026-11-08] 中国青年网：SMEE 干式光刻机平台介绍
[2026-11-09] 上海微电子官网产品说明
[2026-11-08] 新浪财经：国产干式光刻机产业化进展
【免责声明】
本文信息来自上海微电子进博会现场发布、权威媒体公开报道；千万片流片、运行率为量产产线累计统计数据；SSC800/SSB800 为成熟制程干式光刻平台，不覆盖 EUV 先进制程；本文仅为产业资讯解读，不构成设备采购、投资决策依据。