国产前道干式光刻机已经达成累计流片超千万片的里程碑，这批设备由上海微电子研发，多台机器长期在国内头部逻辑、存储芯片产线上量产运行，设备有效运行率超过 92%，这次在第九届进博会展出新一代通用技术平台，代表国产 KrF、I-line 前道光刻设备从样机阶段走向稳定商业化量产。这个平台包含 SSC800 KrF 机型、SSB800 I-line 机型，适配 I-line 和 KrF 两条主流工艺路线，高精度物镜、照明系统、高速双工件台、掩模台、自动物料传输系统都实现自主可控，关键零部件国产化率突破 90%，成像性能对标国际同类型干式光刻机，套刻精度和生产效率还在持续追赶国际标杆。需要区分清楚，这款是 KrF/I-line 干式前道光刻机，不是 EUV 光刻机，主要用于成熟制程芯片生产，满足功率器件、存储、逻辑成熟芯片的光刻需求，它千万片的流片数据，证明国产前道干式光刻机在产线里可靠性、稳定性已经通过大规模量产验证，补齐成熟制程光刻装备的供应链短板。
一、机型与工艺路线清单
- SSB800：I-line 路线，适合相对宽松的成熟制程工艺
- SSC800：KrF 干式路线，性能更强，是主力量产机型
- 平台共性：自研双工件台、国产大 NA 物镜，支持产线连续生产
二、核心指标汇总
- 累计流片总量：超 1000 万片
- 设备有效运行率：＞92%
- 适配工艺：I-line、KrF 干式光刻
- 关键零部件国产化率：＞90%
- 研发厂商：上海微电子（SMEE）
- 展出场合：第九届中国国际进口博览会
三、适用芯片场景
- 功率半导体：MOS 管、IGBT、碳化硅相关配套芯片
- 存储芯片：成熟制程存储器件
- 通用逻辑芯片、MCU、传感器芯片
- 各类模拟芯片、电源管理芯片
四、国产前道干式光刻机和 EUV 光刻机对比表
| 机型类型 | 工艺定位 | 用途 | 当前状态 |
|---|---|---|---|
| 国产 KrF/I-line 干式前道光刻机 | 成熟制程 | 功率、存储、MCU、模拟芯片 | 已量产，累计流片超千万片 |
| EUV 光刻机 | 先进制程 | 7nm 及以下先进芯片 | 国内暂无国产 EUV 量产设备 |
【相关 FAQ】
问题 1：国产前道干式光刻机累计流片超千万片，是不是代表国产 EUV 光刻机已经落地？
回答 1：不是，国产前道干式光刻机累计流片超千万片指的是上海微电子 KrF、I-line 干式机型，用于成熟制程，和制造先进芯片的 EUV 光刻机不属于同一类设备。
问题 2：国产前道干式光刻机累计流片超千万片，这个数据是什么意思？
回答 2：意思是多台国产前道干式光刻机在国内芯片量产产线上，已经连续加工了超过一千万片晶圆，证明设备的稳定性、稼动率达到量产商用标准，设备有效运行率超 92%。
问题 3：国产前道干式光刻机累计流片超千万片，设备主要可以生产哪些芯片？
回答 3：这款国产前道干式光刻机主打 KrF、I-line 工艺，适合生产功率器件、MCU、传感器、模拟芯片、成熟制程存储芯片等。
问题 4：国产前道干式光刻机累计流片超千万片，它的核心零部件国产化情况怎么样？
回答 4：本次亮相的新一代国产前道干式光刻机平台，关键零部件国产化率突破 90%，物镜、照明、双工件台等核心系统实现自主可控。
【参考资料】
[2026-11-08]（重大突破！我国新一代光刻机模型亮相）上海证券报
[2026-11-08]（国产光刻机里程碑！上海微电子前道干式光刻机落地：流片破千万片）集微网
[2026-11-07]（国产光刻机里程碑！上海微电子前道干式光刻机落地：流片破千万片）新浪财经
[2026-11-07]（上海微电子新一代前道干式光刻机亮相进博会）快科技
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本内容仅整理公开展会资讯与行业媒体报道，国产前道干式光刻机累计流片超千万片为厂商公开量产统计数据；设备具体工艺节点、交付计划、客户产线信息以上海微电子官方公告为准，不构成半导体相关投资、采购建议。