本次在进博会亮相的是上海微电子新一代前道干式扫描投影光刻机 SSC800、SSB800 剖视模型，属于 KrF、I-line 路线的标准化光刻平台，并不是 EUV 光刻机，整机物镜、照明、双工件台、自动物料传输、对准传感这些核心系统都做到全链条自主可控，关键零部件国产化率突破 90%，设备已经定型量产，多台设备在国内晶圆厂长期稳定跑产线，累计流片超过 1000 万片，设备有效运行率高于 92%，成像性能对标国际同类干式机型，套刻精度和产能还在持续追赶海外标杆，这次公开亮相，主要是证明国产前道光刻装备已经形成稳定可复制的量产平台，能够支撑功率器件、存储、成熟逻辑芯片的国产化制造，补齐成熟制程光刻设备的供应链短板，不过它只能覆盖成熟制程，还不能用于先进制程 7nm 及以下芯片制造。
一、两款机型基础信息对照表
| 机型 | 技术路线 | 定位 | 核心用途 |
|---|---|---|---|
| SSC800 | KrF（248nm） | 主力机型 | 功率半导体、存储芯片、成熟逻辑芯片，跻身行业第一梯队 |
| SSB800 | I-line（365nm） | 通用机型 | 分立器件、MEMS、面板、特色工艺晶圆 |
- 展出形式说明：现场展示的是剖视模型，不是整机真机，透明结构可以直观看到内部光路、机电传动结构，方便行业理解整机架构。
- 平台特性：属于标准化通用平台，一套硬件架构兼容两条主流紫外光刻路线，产线切换工艺更灵活。
- 核心自研亮点：高速双工件台 + 掩模台、自研大 NA 物镜、高精度对准调平传感器，是这套设备拉开差距的核心模块。
二、这次新一代光刻机的突破点
- 核心子系统全链条自主可控，不再依赖海外采购关键光学、运动台组件，供应链抗风险能力大幅提升。
- 已经完成产线验证，不是实验室样机，在国内头部晶圆厂长期量产，良率、稼动率经过大规模晶圆生产检验。
- 标准化平台化设计，后续迭代、维护、备件供应更方便，方便国内多家晶圆厂批量导入替换进口设备。
- 成像指标达到国际同类干式光刻机水平，套刻精度、吞吐量持续优化，满足成熟制程芯片大批量生产要求。
三、适用场景和制程边界
- 适合场景：IGBT、MOSFET 等功率芯片、NOR Flash、MCU、传感器、MEMS、模拟芯片等成熟特色工艺。
- 制程边界：KrF 机型对应成熟制程，支持几十纳米级别的芯片制造，不支持 EUV、无法制造 3nm、5nm、7nm 先进逻辑芯片。
- 配套产业链：平台带动国内光学、精密运动、真空、控制、气体系统配套厂商同步迭代，拉动上游光刻零部件产业发展。
四、常见认知误区清单
- 误区 1：这次亮相的新一代光刻机就是 EUV 光刻机
- 误区 2：只是模型，说明设备还没有量产
- 误区 3：性能对标国际，代表已经全面超越海外干式光刻机
- 误区 4：这款设备出来之后，先进制程芯片卡脖子问题直接解决
纠正：不是，本次是 KrF/I-line 干式前道光刻机，属于成熟制程光刻设备，和 EUV 是完全不同的技术路线。
纠正：展出的是剖视展示模型，SSC800、SSB800 设备本身已经定型交付、在产线大规模流片。
纠正：成像性能达到同级水平，套刻精度、产能、长期迭代积累还有追赶空间，属于对标跟进。
纠正：它解决成熟制程自主化，先进制程光刻依然还有很长的技术攻关周期。
【相关 FAQ】
问题 1：中国新一代光刻机亮相，本次亮相的新一代光刻机是 EUV 光刻机吗？
回答 1：不是，本次亮相的中国新一代光刻机是上海微电子 KrF 路线 SSC800、I-line 路线 SSB800 干式扫描投影光刻机，属于成熟制程前道光刻设备，不属于 EUV 光刻机。
问题 2：中国新一代光刻机亮相，这次展出的是真机还是模型，设备有没有量产？
回答 2：本次进博会展出的中国新一代光刻机是剖视展示模型，但是 SSC800、SSB800 光刻机本体已经定型量产，多台设备落地国内晶圆厂，累计流片超过 1000 万片。
问题 3：中国新一代光刻机亮相，新一代光刻机核心零部件国产化率达到多少？
回答 3：这款中国新一代光刻机核心零部件国产化率突破 90%，物镜、照明系统、高速双工件台、对准传感等核心系统实现全链条自主可控。
问题 4：中国新一代光刻机亮相，这款新一代光刻机适合生产哪些芯片？
回答 4：这款中国新一代光刻机适合生产功率半导体、NOR Flash、MCU、MEMS、传感器、模拟芯片等成熟制程、特色工艺芯片，不适合 7nm 及以下先进逻辑芯片制造。
问题 5：中国新一代光刻机亮相，新一代光刻机的成像水平和国际对比是什么情况？
回答 5：这款中国新一代光刻机成像性能和国际同类干式光刻机处于同一水平，套刻精度、生产吞吐量还在持续优化追赶国际标杆。
【参考资料】
[2026-11-09]（重大突破！我国新一代光刻机模型亮相进博会）环球时报
[2026-11-08]（重大突破！我国新一代光刻机模型亮相进博会）中国青年网
[2026-11-09]（国产新一代光刻机亮相：SSC800 KrF 机型对标国际干式光刻标杆）太平洋科技
[2026-11-07]（国产前道干式光刻机落地：流片破千万片）快科技
[2026-11-09]（上海微电子新一代 KrF 光刻机平台亮相，国产成熟制程光刻加速替代）观察者网
【免责声明】
本文为中国新一代光刻机亮相事件的行业资讯解读，不构成投资建议；本次亮相设备为 KrF/I-line 干式光刻机，不涉及 EUV 先进光刻设备；设备指标、稼动率、流片数据来自企业公开发布信息，不同晶圆厂工艺导入效果存在差异；半导体光刻技术迭代周期漫长，成熟制程与先进制程技术路线有明确区分，相关产业研发进度、交付节奏以企业官方公告为准。