标签 > 重大突破！我国新一代光刻机模型亮相 性能直追国际标杆

国内新一代光刻机模型对外公开亮相，该模型在曝光精度、套刻精度、产能指标等核心参数上瞄准国际主流标杆机型，代表国内光刻机研发取得阶段